陰離子型共聚物的合成及應用於鈦酸鋇漿體的分散
dc.contributor | 許貫中 | zh_TW |
dc.contributor.author | 陳文儀 | zh_TW |
dc.date.accessioned | 2019-09-04T09:39:55Z | |
dc.date.available | 不公開 | |
dc.date.available | 2019-09-04T09:39:55Z | |
dc.date.issued | 2008 | |
dc.description.abstract | 鈦酸鋇是一種高介電常數的陶瓷粉體,為積層陶瓷電容器的關鍵原料。在鈦酸鋇電子陶瓷的製程中,要得到穩定性高且分散良好的漿體,必須添加分散劑。本篇論文合成一種陰離子型共聚物,並探討其對於鈦酸鋇水系漿體分散性質的影響。首先,在鹼性環境下,利用自由基聚合反應,合成出相同分子量,不同單體比例的共聚物poly(methacrylic acid-co-methacrylamide-co-(b-carboxylate(hydroxyl acrylic polyethylester))) (PMAMC),並以1H-NMR及FT-IR確認聚合物的結構,以GPC測定其分子量,使用電位滴定儀測量共聚物含羧基比例及其解離率。其次,探討這兩種共聚物對鈦酸鋇水系漿體分散性的影響,研究方法有流變行為、沈降體積及粒徑分佈的測試,並利用界達電位及吸附量等實驗結果來解釋,另外,利用ICP-MS來測量鈦酸鋇漿體中鋇離子的溶出量。研究結果顯示添加這兩種共聚物皆能使鈦酸鋇漿體穩定,而其中又以添加PMAMC 1分散效果最佳。相對於PMAMC 0,添加PMAMC 1對於漿體中電解質濃度的變化較無影響,因為PMAMC 1帶有長側鏈CHAP。最後,添加共聚物PMAMC皆能抑制鋇離子溶出。 關鍵字:鈦酸鋇、共聚物、合成、分散、鋇離子溶出 | zh_TW |
dc.description.sponsorship | 化學系 | zh_TW |
dc.identifier | GN0694420450 | |
dc.identifier.uri | http://etds.lib.ntnu.edu.tw/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=id=%22GN0694420450%22.&%22.id.& | |
dc.identifier.uri | http://rportal.lib.ntnu.edu.tw:80/handle/20.500.12235/100581 | |
dc.language | 中文 | |
dc.subject | 鈦酸鋇 | zh_TW |
dc.subject | 分散劑 | zh_TW |
dc.subject | 合成 | zh_TW |
dc.title | 陰離子型共聚物的合成及應用於鈦酸鋇漿體的分散 | zh_TW |