鈷薄膜在鉑（997）的表面成長結構

Abstract

摘要 我們利用歐傑電子能譜(Auger Electron Spectroscopy， AES)、低能電子繞射（Low Energy Electron Diffraction， LEED）、以及紫外光電子能譜術(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy， UPS)來深入探討鈷超薄膜鍍於0.25ML Co / Pt(111) 、1ML Co / Pt(111) 的成長模式以及在高溫形成合金時的成份、結構變化。 在250K和300K之間鈷原子可以做周期性層狀成長並形成原子鏈，但在350K則會做其他的成長方式，可由LEED和UPS的結果得知。 0.25ML Ni / 1 ML Co / Pt(997) 系統的退火效應中，Co53訊號在380K開始下降，Pt64訊號開始上升，和UPS開始變化溫度相同；且Pt64訊號有平台的現象產生，推測是因為有部份鈷原子往階梯方向擴散一段距離，造成AES量測時訊號大小沒有隨溫度改變。 1ML Ni / 1 ML Co / Pt(997) 系統的退火效應中，Co53和Pt64開始發生變化的溫度在420K左右，和以前實驗室所作隨薄膜厚度增加AES訊號開始變化溫度上升的結果相似；同時Pt64觀察不到有平台的現象產生，應該是鈷原子均往下擴散所造成。在650K之後鈷原子均勻擴散，使LEED圖形開始明亮起來，在700K後，Co53訊號快速下降，顯示鈷原子往更深層開始擴散。