鈷薄膜在鉑(997)的表面成長結構

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2005

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摘要 我們利用歐傑電子能譜(Auger Electron Spectroscopy, AES)、低能電子繞射(Low Energy Electron Diffraction, LEED)、以及紫外光電子能譜術(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy, UPS)來深入探討鈷超薄膜鍍於0.25ML Co / Pt(111) 、1ML Co / Pt(111) 的成長模式以及在高溫形成合金時的成份、結構變化。 在250K和300K之間鈷原子可以做周期性層狀成長並形成原子鏈,但在350K則會做其他的成長方式,可由LEED和UPS的結果得知。 0.25ML Ni / 1 ML Co / Pt(997) 系統的退火效應中,Co53訊號在380K開始下降,Pt64訊號開始上升,和UPS開始變化溫度相同;且Pt64訊號有平台的現象產生,推測是因為有部份鈷原子往階梯方向擴散一段距離,造成AES量測時訊號大小沒有隨溫度改變。 1ML Ni / 1 ML Co / Pt(997) 系統的退火效應中,Co53和Pt64開始發生變化的溫度在420K左右,和以前實驗室所作隨薄膜厚度增加AES訊號開始變化溫度上升的結果相似;同時Pt64觀察不到有平台的現象產生,應該是鈷原子均往下擴散所造成。在650K之後鈷原子均勻擴散,使LEED圖形開始明亮起來,在700K後,Co53訊號快速下降,顯示鈷原子往更深層開始擴散。

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鉑(997)

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