射頻磁控濺鍍法研製直接耦合高溫超導量子干涉元件磁量計與特性研究

dc.contributor	楊鴻昌	zh_TW
dc.contributor	洪姮娥	zh_TW
dc.contributor.author	王俊傑	zh_TW
dc.date.accessioned	2019-09-04T01:32:05Z
dc.date.available	不公開
dc.date.available	2019-09-04T01:32:05Z
dc.date.issued	2010
dc.description.abstract	在磁控濺鍍的系統下，發現階梯高度跟薄膜厚度比會影響SQUID訊號的好壞。本實驗中在其他條件都盡量能控制在一定的範圍內，試了三種不同的高度比，發現三種比例中階梯跟薄膜的高度比1:0.9的Vpp有三個SQUID超過10 μV為最好。	zh_TW
dc.description.sponsorship	光電科技研究所	zh_TW
dc.identifier	GN0696480260
dc.identifier.uri	http://etds.lib.ntnu.edu.tw/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=id=%22GN0696480260%22.&%22.id.&
dc.identifier.uri	http://rportal.lib.ntnu.edu.tw:80/handle/20.500.12235/98203
dc.language	中文
dc.subject	射頻磁控濺鍍	zh_TW
dc.subject	釔鋇銅氧	zh_TW
dc.subject	磁量計	zh_TW
dc.title	射頻磁控濺鍍法研製直接耦合高溫超導量子干涉元件磁量計與特性研究	zh_TW

Collections