鈷/石墨烯的電化學與磁特性研究
| dc.contributor | 蔡志申 | zh_TW |
| dc.contributor | 張丞勛 | zh_TW |
| dc.contributor | Tsay, Jyh-Shen | en_US |
| dc.contributor | Chang, Cheng-Hsun Tony | en_US |
| dc.contributor.author | 楊廷勛 | zh_TW |
| dc.contributor.author | Yang, Ting-Xun | en_US |
| dc.date.accessioned | 2020-10-19T06:54:57Z | |
| dc.date.available | 不公開 | |
| dc.date.available | 2020-10-19T06:54:57Z | |
| dc.date.issued | 2020 | |
| dc.description.abstract | 本實驗利用原子力顯微鏡及磁光柯爾效應儀，對於濺鍍鈷成長於商用石墨烯/銅樣品，研究鈷/石墨烯的微結構對磁特性及電位磁控制之表現。本研究發現奈米級的濺鍍鈷薄膜成長於石墨烯樣品呈現出縱向磁異向性，同時透過磁光量測及原子力顯微鏡的確認發現該商用石墨烯/銅樣品表面具有規則化的刻痕，由於形狀異向性的影響，其縱向磁化產生了二對稱的面上難軸與面上易軸，而本系統的矯頑力隨著鈷厚度漸增，直到30 nm時達到穩定。 因此本研究群挑選20及30 nm的鈷/石墨烯樣品放入電化學反應槽進行電位磁控制的研究，然而已知不同的樣品在化學溶液中會產生各種氧化還原的變化，因此透過循環伏安法對鈷/石墨烯樣品進行研究是不可或缺的。本研究採用了溶液10及100 mM KCl分別加入0.1 mM HCl，發現了鈷及銅的氧化還原電位、氯離子吸附與退附電位以及HER反應電位，同時與能斯特方程預估的相同，較濃的溶液將使得氧化還原電位上升。 根據循環伏安法的研究結果，於是在電位磁控制的研究中將分成三個部分進行說明，分別是濃度、電位以及氯離子吸附對矯頑力的影響研究，並且分別選擇了不反應的電位區間及氯離子吸退附電位進行比較。可以明顯的發現濃度、電位較高以及未吸附氯離子的樣品表現出較高的矯頑力，這些現象共同表現出電雙荷層對於樣品表面磁異向能的影響進而產生矯頑力的電位磁控制特性。特別值得一提的是上述的電位磁控制研究皆為可逆控制，這對於其元件開發顯示出優異的應用價值。 關鍵字: 鈷 、石墨烯、電位誘導磁異向性、循環伏安 | zh_TW |
| dc.description.abstract | none | en_US |
| dc.description.sponsorship | 物理學系 | zh_TW |
| dc.identifier | G060641034S | |
| dc.identifier.uri | http://etds.lib.ntnu.edu.tw/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=id=%22G060641034S%22.&%22.id.& | |
| dc.identifier.uri | http://rportal.lib.ntnu.edu.tw:80/handle/20.500.12235/111378 | |
| dc.language | 中文 | |
| dc.subject | 鈷 | zh_TW |
| dc.subject | 石墨烯 | zh_TW |
| dc.subject | 電位誘導磁異向性 | zh_TW |
| dc.subject | 循環伏安 | zh_TW |
| dc.subject | none | en_US |
| dc.title | 鈷/石墨烯的電化學與磁特性研究 | zh_TW |
| dc.title | Electrochemical and Magnetic Properties of Cobalt / Graphene | en_US |