微系統類LIGA製程光刻技術

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Date

2001-02-01

Authors

楊啟榮
強玲英
郭文凱
林郁欣
林暉雄
張哲瑋
趙俊傑

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Publisher

財團法人國家實驗研究院儀器科技研究中心

Abstract

微系統類 LIGA 製程在微結構的厚度、深寬比、精度方面雖不如 X-ray LIGA 製程,但在生產成本、耗時性、製程彈性方面卻遠優於 X-ray LIGA 技術。在 MEMS 應用領域次微米精度與極大深寬比並非絕對必要的前提下,類 LIGA 製程仍有其發展空間。本文將針對類 LIGA 製程光刻技術作通盤性的介紹,內容涵括標準 X-ray LIGA 製程、類 LIGA 製程的厚膜光阻 UV 微影技術、準分子雷射微細加工及感應耦合電漿離子蝕刻技術。

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