物理學系

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本系師資陣容堅強,現有教授15人、副教授12人、助理教授2人、名譽教授5人,每年國科會補助之專題研究計畫超過廿個,補助之經費每年約三千萬,研究成果耀眼,發表於國際著名期刊(SCI)的論文數每年約70篇。

近年來已在課程方面 著手變革,因應學子的各種不同的生涯規劃與需求,加強職業輔導與專業能力的提升,增加高科技相關課程,提供光電學程(光電半導體、半導體製程技術、近代光 學與光電科技等)、凝態物理、表面物理與奈米科技、高能與理論物理、生物物理、應用物理等研究發展專業人才,並配合博士逕讀辦法,讓大學部學生最快能在五 年內取的碩士(透過碩士班先修生),八年內取得博士,有助於提升本系基礎與應用研發能量,為各學術研究機構與業界高科技創新與研發人力(包括在光電業、半 導體製造業、電腦週邊產業等)。

本系亦推動網路教學(科學園)與數位科學研究,作為提供科學教學與學習系統平台的強化支援,並除了原先開設的教育學程外,多增強學生英語教學的能力,與世界科學教師系統連結,在教師從業方面,塑造世界級的物理科學教師,發揮教育影響力。

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    氧化釓鋅薄膜的法拉第磁光光譜
    (2021) 黎源弘; Li, Yuan Hung
    本文為延續研究,主要在探討摻雜釓的氧化鋅薄膜在室溫的光致螢光光譜和法拉第磁光效應。釓的摻雜莫耳濃度0%到20%,光譜的測量範圍是340 nm至700 nm,磁場介於±900 mT之間。摻雜不同濃度釓元素的氧化鋅薄膜都會產生鋅空缺,發出Ec→VZn-能階躍遷的螢光,此外除5%薄膜外,各薄膜亦同時有鋅間隙及氧間隙。當摻雜比例上升超過5%時,非本質發光會主宰PL光譜且光譜外型明顯改變。各樣品的總法拉第旋轉角基板加上薄膜的總合,和外加磁場成負斜率的直線關係。單獨觀察基板薄膜亦是如此。基板及薄膜的韋爾代常數介於-0.01287至-0.00399及-5.96000到6.74000 rad/mT.m之間,且隨波長增長量值減小,多數皆為負值,唯5%摻雜薄膜於380 nm到540 nm間為正值。在波長380、420、480及640 nm之韋爾代常數對於摻雜比有先增後減的現象,並在5%時有最大值。此結果有助於找到薄膜對波長在法拉第效應上的最高敏感度。總合兩光譜結果,可發現除摻雜元素可造成磁性,進而改變法拉第磁光效應外,缺陷對薄膜的磁性及法拉第磁光效應亦有相當的影響。
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    脈衝雷射蒸鍍法製備氧化釓鋅薄膜的探討: 結構、光學與磁性研究
    (2013) 密修誌
    我們是利用脈衝雷射沉積法製備摻雜釓的氧化鋅薄膜,X光繞射顯示樣品維持原有的晶體結構,但c軸晶格常數減小。因為薄膜的厚度在300nm以下,所以拉曼散射光譜只獲得微弱的訊號,樣品的能隙發光強度隨著摻雜濃度上升而下降,缺陷發光則隨釓濃度上升而增加,主要的缺陷有鋅錯位及鋅間隙,所有的樣品僅有Zn0.95Gd0.05O在室溫具有鐵磁性,其餘皆為順磁性。室溫(300K)的m-H曲線,只有x=0.051有磁滯曲線,在氧壓為3×10-1mbar及這樣的濃度下室溫是有鐵磁性。
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    新穎材料 Cs2Nb4O11 與 MexMn1-xS ( Me = Co, Gd ) 之光譜性質研究
    (2010) 黃俊儒; Chun-Ru Huang
    們研究Cs2Nb4O11單晶樣品的光譜性質。Cs2Nb4O11於165 ℃展現反鐵電相轉順電相的相變,第一原理理論計算顯示,氧八面體中心的Nb(4)與Nb(5)的位移為相變主要機制,NbO6八面體沿著c-axis位移而造成氧原子週遭的環境不同,受到其它原子的吸引或排斥,所以高溫橢圓偏振光譜 ( T = 165 ℃) 顯示氧原子2p軌域上的電子躍遷至鈮原子3d軌域所需要的能量( 4.95 eV與6.07 eV )受到了影響。 其次,我們研究MexMn1-xS (Me = Co, Gd)多晶樣品的變溫拉曼散射光譜。隨著摻雜Co離子濃度增加,CoxMn1-xS樣品顯現值得注意的重點包括(i) 840 cm-1拉曼峰有藍移的現象;(ii) 840 cm-1拉曼峰隨著溫度降低有紅移的現象。我們推測840cm-1拉曼峰與小極化子機制有緊密的關連性,經由小極化子的理論分析顯示出其束縛能隨著居里溫度的降低而增加。此外,位於1000 cm-1的拉曼峰在溫度低於尼爾溫度時,其拉曼峰權重會上升。以上這些實驗結果驗證材料為具有複雜自旋-聲子交互作用的系統。
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    利用PLD製備含有氧化鎂鋅緩衝層的氧化釓鋅薄膜之結構、光學與磁性研究
    (2016) 曾子倫; Tseng, Tzu-Lung
    本論文以脈衝雷射蒸鍍法在c指向的單晶藍寶石基板上製備Zn1-xGdxO,改變濃度、基板溫度、雷射能量並探討鍍膜速率、薄膜結構特性、光學特性和磁性。此外,製備(Zn1-xGdxO/Zn0.9Mg0.1O)雙層膜樣品來探討不同Zn0.9Mg0.1O緩衝層的厚度對Zn1-xGdxO在薄膜結構和光學特性的影響,其中鍍膜氧氣壓力為3×10-1 mbar,Gd摻雜的原子比例為1%、3%、8%。 Zn1-xGdxO鍍膜速率會隨著Gd比例的增加而上升,也會隨著雷射能量的上升而上升。藉由X光光電子能譜測定的Gd摻雜比例皆與配方比例相當接近。X光繞射光譜及拉曼散射光譜顯示所有薄膜皆無雜質或其他晶相產生,代表Gd與Mg成功取代Zn位置。在Gd摻雜濃度變高時,薄膜的粒徑大小持續下降,代表薄膜結晶品質變差;在Mg摻雜的薄膜變薄時,薄膜的粒徑大小持續下降,因其薄膜厚度太薄使其粒徑只能與厚度接近。光致螢光顯示Zn1-xGdxO薄膜的發光都與鋅空缺和鋅間隙有關,而多了一層氧化鎂鋅緩衝層時,會讓Zn1-xGdxO薄膜的缺陷發光強度下降。超導量子干涉磁量儀測定結果顯示所有氧化釓鋅薄膜皆為順磁性。
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    氧化釓鋅薄膜在不同鍍膜氧壓下的結構、光學與磁性
    (2015) 謝宗均; Hsieh, Tsung-Chun
    本論文以脈衝雷射蒸鍍法在c指向單晶藍寶石基板上製備150nm厚的ZnGdO薄膜,並探討薄膜鍍膜速率、薄膜的結構特性、光學性質及磁性與鍍膜氧壓的關係,其中單位面積雷射能量為2.6 J/cm2,鍍膜氧壓分別為0.3與0.08 mbar,Gd摻雜的原子比例為0~20 %,基板溫度為700℃。 ZnGdO薄膜鍍膜速率會隨著Gd比例的增加而上升,且在高氧壓(0.3 mbar)環境下製備的薄膜其鍍膜速率高於低氧壓(0.08 mbar)製備的薄膜。藉由X光光電子能譜測定的Gd摻雜比例皆略大於配方比例。X光繞射及拉曼散射光譜顯示所有薄膜皆無雜質或其他晶相產生,代表Gd成功取代Zn的位置。Gd比例增加時,c軸晶格常數先減少後增加,粒徑大小則持續下降,代表薄膜結晶品質變差。當Gd比例高於5%時,高氧壓製備的薄膜之結晶品質較低氧壓製備的薄膜差。光致螢光光譜顯示所有薄膜中都存在鋅空缺與鋅間隙,而在純氧化鋅中還有氧空缺。橢圓偏振儀測定的薄膜直接能隙隨著Gd比例的上升而增加。超導量子干涉磁量儀測定結果顯示所有純氧化鋅薄膜皆為超順磁性,氧化釓鋅薄膜皆為順磁性。在低溫下,高氧壓製備的薄膜其最大磁矩大於低氧壓製備的薄膜。