物理學系

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本系師資陣容堅強,現有教授15人、副教授12人、助理教授2人、名譽教授5人,每年國科會補助之專題研究計畫超過廿個,補助之經費每年約三千萬,研究成果耀眼,發表於國際著名期刊(SCI)的論文數每年約70篇。

近年來已在課程方面 著手變革,因應學子的各種不同的生涯規劃與需求,加強職業輔導與專業能力的提升,增加高科技相關課程,提供光電學程(光電半導體、半導體製程技術、近代光 學與光電科技等)、凝態物理、表面物理與奈米科技、高能與理論物理、生物物理、應用物理等研究發展專業人才,並配合博士逕讀辦法,讓大學部學生最快能在五 年內取的碩士(透過碩士班先修生),八年內取得博士,有助於提升本系基礎與應用研發能量,為各學術研究機構與業界高科技創新與研發人力(包括在光電業、半 導體製造業、電腦週邊產業等)。

本系亦推動網路教學(科學園)與數位科學研究,作為提供科學教學與學習系統平台的強化支援,並除了原先開設的教育學程外,多增強學生英語教學的能力,與世界科學教師系統連結,在教師從業方面,塑造世界級的物理科學教師,發揮教育影響力。

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    以拉曼散射光譜分析氮化鎵與碳化矽薄膜之應變分佈
    (2012) 鍾佩君; Pei-Chun Chung
    我們測量氮化鎵與碳化矽薄膜的拉曼散射光譜,研究薄膜的晶格結構,並以直線掃描方式測量薄膜截面的拉曼散射光譜,分析拉曼特徵峰參數隨距離薄膜表面不同深度的變化,進一步建立膜厚與應變、殘餘應力的相關性。 首先,7.6 micrometre厚度氮化鎵薄膜的拉曼散射光譜顯示兩個顯著特徵峰(E2(high)與A1(LO)對稱性振動模),其頻率位置約為569 cm-1與739 cm-1,截面光譜顯示五個一階拉曼活性振動模,E2(low)、A1(TO)、E1(TO)、E2(high)、及E1(LO)拉曼特徵峰的頻率位置約為143 cm-1、531 cm-1、558 cm-1、567 cm-1及740 cm-1,這意味著,氮化鎵薄膜屬於六方烏采晶格結構。而5.0 micrometre厚度碳化矽薄膜表面與截面的拉曼散射光譜皆顯示TO與LO對稱性振動模,其頻率位置約為796.1 cm-1與970.5 cm-1,代表碳化矽薄膜為立方晶系結構。 接著,我們以直線掃描方式測量薄膜截面的拉曼散射光譜,發現7.6 micrometre厚度的氮化鎵薄膜之E2(high)對稱性振動模與5.0 micrometre厚度的碳化矽薄膜之TO振動模愈接近基板界面,其頻率位置展示藍移現象;反之,4.0 m厚度、及摻雜矽之4.0 micrometre與2.0 micrometre厚度氮化鎵薄膜之E2(high)對稱性振動模顯示紅移現象。 氮化鎵薄膜的E2(high)振動模出現紅移現象,代表薄膜內部存在伸張應變,此時薄膜與基板的晶格常數不匹配對薄膜應變影響較明顯;若是薄膜的E2(high)振動模出現藍移現象,則表示薄膜內部存在壓縮應變,此結果表示熱膨脹係數對應變的影響較顯著。氮化鎵薄膜與藍寶石基板交界面的應變量值約為8.0 × 10-4 ~ 1.16 × 10-3 。而碳化矽薄膜的TO振動模出現藍移現象,此與碳化矽薄膜的沉積溫度與速率有關,其與矽基板交界面處的應變量值約為1.78 × 10-4。