物理學系

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本系師資陣容堅強,現有教授15人、副教授12人、助理教授2人、名譽教授5人,每年國科會補助之專題研究計畫超過廿個,補助之經費每年約三千萬,研究成果耀眼,發表於國際著名期刊(SCI)的論文數每年約70篇。

近年來已在課程方面 著手變革,因應學子的各種不同的生涯規劃與需求,加強職業輔導與專業能力的提升,增加高科技相關課程,提供光電學程(光電半導體、半導體製程技術、近代光 學與光電科技等)、凝態物理、表面物理與奈米科技、高能與理論物理、生物物理、應用物理等研究發展專業人才,並配合博士逕讀辦法,讓大學部學生最快能在五 年內取的碩士(透過碩士班先修生),八年內取得博士,有助於提升本系基礎與應用研發能量,為各學術研究機構與業界高科技創新與研發人力(包括在光電業、半 導體製造業、電腦週邊產業等)。

本系亦推動網路教學(科學園)與數位科學研究,作為提供科學教學與學習系統平台的強化支援,並除了原先開設的教育學程外,多增強學生英語教學的能力,與世界科學教師系統連結,在教師從業方面,塑造世界級的物理科學教師,發揮教育影響力。

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    石墨烯應用於深紫外光發光二極體上作為透明電流擴散層
    (2016) 蕭長泰; Hisao, Chang-Tai
    石墨烯(graphene)為一種由碳原子依六角形排列而成之二維碳材料,其具有良好之電子遷移率、熱傳導度、機械特性與低片電阻等特性,而其於波長小於280奈米之高穿透度更被看好應用於深紫外光發光二極體(GaNLED)之上作為透明電流擴散層(TCE)。然而,石墨烯和GaN(特別是p-GaN)之間的高接觸電阻率(ρc)成為利用石墨烯作為GaNLED的透明電流擴散層需要解決的重大困難。 為了降低石墨烯和GaN介面的接觸電阻率,在本實驗中,我們準備了兩種類型的緩衝層包括氧化鎳(NiO)薄膜和銦錫氧化物(ITO)量子點放置於石墨烯和GaN之間,藉以增進石墨烯和GaN之附著力,並降低其介面的蕭特基能障。本實驗乃利用低壓化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition;CVD)方法製作石墨烯,p-GaN磊晶則由晶元光電所提供。其中厚度為2 nm之氧化鎳乃利用原子層化學氣相沉積法(Atomic Layer Deposition;ALD)將其沉積於石墨烯與p-GaN之間,另一緩衝層為於石墨烯與p-GaN間鍍層銦錫氧化物薄膜經蝕刻過後使之成為量子點銦錫氧化物。置入緩衝層後再以450°C氬氣環境下熱退火處理以加強結構完整性,最後利用圓形傳輸線模型(circular transmission line model;CTLM)與發光二極體元件量測其特性與電性。