機電工程學系

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系所沿革

為迎合產業機電整合人才之需求,本校於民國 91年成立機電科技研究所,招收碩士班學生;隨後並於民國93年設立大學部,系所整合為「機電科技學系」,更於101學年度起招收博士班學生。103學年度本系更名為「機電工程學系」,本系所之發展方向與目標,係配合國家政策、產業需求與技術發展趨勢而制定。本系規劃專業領域包含「精密機械」及「光機電整合」 為兩大核心領域, 使學生不但學有專精,並具跨領域的知識,期能強化學生之應變能力,以適應多元變化的明日社會。

教學目標主要希望教導學生機電工程相關之基本原理與實務應用的專業知能,並訓練學生如何運用工具進行設計、執行、實作與驗證各項實驗,以培養解決機電工程上各種問題所需要的獨立思考與創新能力。

基於建立系統性的機電工程整合教學與研究目標,本系學士班及研究所之教育目標如下:

一、學士班

1.培育具備理論與實作能力之機電工程人才。

2.培育符合產業需求或教育專業之機電工程人才。

3.培育具備人文素養、專業倫理及終身學習能力之機電工程人才。

二、研究所

1.培育具備機電工程整合實務能力之專業工程師或研發人才。

2.培育機電工程相關研究創新與產業應用之專業工程師或研發人才。

3.培育具備人文素養、專業倫理及終身學習能力之專業工程師或研發人才。

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    KrF準分子雷射LIGA製程用厚膜光阻劑之合成與應用(III)
    (2002-07-31) 李育德; 楊啟榮
    微機電系統(MEMS)應用技術中,LIGA製程技術日益受到重視。在LIGA技術中第一個步驟也是整個程序中最重要的步驟是光刻製程。目前LIGA技術中的光深刻術(反應性離子蝕刻除外)所面臨的最大挑戰是在於高分子厚膜光阻材料的準備,這是LIGA技術中急需解決的問題。許多的研究結果指出 Kapton在KrF準分子雷射下可以得到不錯的光刻結構品質,因此聚醯亞胺有潛力作為Laser-LIGA製程中的厚膜光阻材料。但是一般常見的聚醯亞胺(如Kapton)的溶解性極差,可以說是幾乎不溶於任何的溶劑,因此有難以將聚醯亞胺去除的問題,限制了聚醯亞胺在Laser-LIGA上的應用。 Harris等人則發展了許多有機可溶的聚醯亞胺,他們歸納出有機可溶聚醯亞胺分子結構需要具備以下特徵:(1)在分子主鏈上引入巨大或非極性的分子團。(2)主鏈上含有柔軟或非對稱性的結構。(3)經由共聚合反應而破壞規律或對稱性的分子結構。本研究成功地合成出可耐電鑄時嚴苛環境的聚醯亞胺厚膜光阻,且利用所合成出的聚醯亞胺厚膜光阻製作出最小線寬為10微米最大深寬比為30的微結構。