楊鴻昌洪姮娥王俊傑2019-09-04不公開2019-09-042010http://etds.lib.ntnu.edu.tw/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=id=%22GN0696480260%22.&%22.id.&http://rportal.lib.ntnu.edu.tw:80/handle/20.500.12235/98203在磁控濺鍍的系統下，發現階梯高度跟薄膜厚度比會影響SQUID訊號的好壞。本實驗中在其他條件都盡量能控制在一定的範圍內，試了三種不同的高度比，發現三種比例中階梯跟薄膜的高度比1:0.9的Vpp有三個SQUID超過10 μV為最好。射頻磁控濺鍍釔鋇銅氧磁量計