國立臺灣師範大學機電工程學系楊啟榮強玲英郭文凱林郁欣林暉雄張哲瑋趙俊傑2014-10-302014-10-302001-02-011019-5440http://rportal.lib.ntnu.edu.tw/handle/20.500.12235/36945微系統類 LIGA 製程在微結構的厚度、深寬比、精度方面雖不如 X-ray LIGA 製程，但在生產成本、耗時性、製程彈性方面卻遠優於 X-ray LIGA 技術。在 MEMS 應用領域次微米精度與極大深寬比並非絕對必要的前提下，類 LIGA 製程仍有其發展空間。本文將針對類 LIGA 製程光刻技術作通盤性的介紹，內容涵括標準 X-ray LIGA 製程、類 LIGA 製程的厚膜光阻 UV 微影技術、準分子雷射微細加工及感應耦合電漿離子蝕刻技術。微機電系統類LIGA製程