光電工程研究所暨學士學位學程

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本所於民國91年成立碩士班,94年成立博士班。本所成立之宗旨及教育目標在於培育符合社會所需的光電科技專業人才,本所發展目標在於實現學界對於國內產業的關懷與參與之願景,並朝向「產業知識化、知識產業化」的發展趨勢與需求邁進。近年來,本校已轉型為綜合研究型大學,依據校務整體發展計畫與本所發展策略規劃之需求,將能提供本所未來發展之參考與願景。

本所研究方向 :
一、光電材料與元件模組
二、奈米生醫及醫學影像

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    金屬與介電質層狀結構光學性質分析之研究
    (2017) 余宗; Yu, Zong
    摘要 在本篇論文我們將探討金和鋁與介電(SnSe〖、N〗_a3 AlF_6)薄膜的光學特性。首先會先介紹分析薄膜特性的方法:轉移矩陣法,再利用模擬軟體(MathCad、Sigmaplot)作圖。 第一部分為光子晶體的結構,第二部分為摻雜結構,不同結構我們都會比較其TE和TM波改變角度和改變厚度後的特性,其中TE波與入射角度有相聯關係,所以我們在比較不同厚度時,為了簡化其複雜性,都將入射角設定為0°,我們將可以發現隨著入射光角度加大能隙寬度和能隙寬度會往高頻區移動,在第二部分摻雜結構中可以發現能隙會有缺陷。 關鍵字: 光子晶體、光子能隙、缺陷結構