Browsing by Author "Liang, Hong"

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    光輔助金屬鈀薄膜蝕刻製程在少層硫化物成長研究
    (2021) 梁紘; Liang, Hong
    本論文目的在開發一個金屬鈀的奈米級蝕刻製程，應用在其成長硫化物層數控制技術開發。首先在大氣與室溫環境下，控制溫濕度條件，利用波長 1064 nm的遠紅外線雷射進行照射，透過不同照射功率與照射次數的改變，探討雷射對金屬鈀薄膜的改質情形。其次，利用雷射照射後的金屬鈀薄膜進行甲酸蒸氣反應實驗，在0.25M、80℃下將甲酸汽化、導入反應腔體與試片反應，進行薄膜單次與循環蝕刻實驗，透過原子力顯微鏡(AFM)的表面粗糙度變化與厚度變化觀察以及光電子能譜儀(XPS)的化學鍵結分析，得知蝕刻反應前後的狀況，包含蝕刻率與蝕刻終點等。透過最佳化蝕刻參數，每循環最小蝕刻速率可小於1nm/cycle，且蝕刻過後表面粗糙度約為0.2nm。在其硫化物成長的製程開發方面，利用單加熱區管型爐來進行，硫粉跟試片被放在加熱中心的相反方向來調整氣化溫度跟反應濃度。調整試片位置與中央加熱區溫度，透過拉曼光譜分析結果，得知Pd-S在中心溫度750℃、與中心加熱區距離20cm，得到最佳的硫化鈀成長結果。